热电阻蒸发式真空镀膜机
热电阻蒸发式真空镀膜机
*非标定制实验室设备
热电阻蒸发式真空镀膜机,采用热电阻蒸发镀膜,配1~3组电阻蒸发源,结构设计紧凑,性能稳定可靠,自动化操作界面,操控简单方便。广泛应用于科研院所、实验室制备金属、导电薄膜、光学薄膜等,同时可选配离子源用于离子束清洗及辅助镀膜能力;选配电子枪,扩展沉积薄膜类型应用。
特点
一体式系统框架设计
前开门真空腔体,方便取放基片、添加蒸发材料以及真空室的日常维护;
大口径扩散泵作为主抽泵,真空极限高达3×10-4Pa;另可选分子泵或者低温泵作为主抽泵,真空极限≤5×10-5Pa(2×10-8Torr);
标配冷阱,提高成膜质量;可选配深冷,缩短抽真空时间
可选配E型电子枪,4~8个坩埚
可选配离子源用于离子束清洗及辅助镀膜能力。
可定制各类基板尺寸,加热或水冷
采用Inficon膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚
可沉积金属;非金属;化合物等薄膜材料
应用
科研与教学
主要指标
真空室:立式前开门,304不锈钢;外壁通冷却水,内衬不锈钢防污板
真空系统:机械泵+扩散泵+冷阱(或分子泵、低温泵)+(可选加罗茨泵)
极限真空:3.0E-4pa
恢复真空:大气至4.0E-3pa≤15min
工作架:Φ640mm帽形工件盘等,扇形,行星,转速可调
烘烤:上烘烤用进口管状加热器(下烘烤用碘钨灯加热);温度350℃,可调可控
蒸发源:1~3组的电阻蒸发源
电子枪:选配电子束蒸发源,功率6Kv至10Kv
离子源:Φ12cm考夫曼(可选),
工艺气体配置:1~3只进口MFC控制
膜厚控制:光学膜厚控制仪或光栅单色仪
石英晶控:国产或进口
电源:3相,380V,50Hz,约30K
其他选配:加热型基台、镀膜机配套冷水机
典型应用
等离子辅助沉积Ag膜