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热电阻蒸发式真空镀膜机

*非标定制实验室设备

热电阻蒸发式真空镀膜机,采用热电阻蒸发镀膜,配1~3组电阻蒸发源,结构设计紧凑,性能稳定可靠,自动化操作界面,操控简单方便。广泛应用于科研院所、实验室制备金属、导电薄膜、光学薄膜等,同时可选配离子源用于离子束清洗及辅助镀膜能力;选配电子枪,扩展沉积薄膜类型应用。

特点

一体式系统框架设计

前开门真空腔体,方便取放基片、添加蒸发材料以及真空室的日常维护;

大口径扩散泵作为主抽泵,真空极限高达3×10-4Pa;另可选分子泵或者低温泵作为主抽泵,真空极限≤5×10-5Pa(2×10-8Torr);

标配冷阱,提高成膜质量;可选配深冷,缩短抽真空时间

可选配E型电子枪,4~8个坩埚

可选配离子源用于离子束清洗及辅助镀膜能力。

可定制各类基板尺寸,加热或水冷

采用Inficon膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚

可沉积金属;非金属;化合物等薄膜材料

应用

科研与教学

主要指标

真空室:立式前开门,304不锈钢;外壁通冷却水,内衬不锈钢防污板

真空系统:机械泵+扩散泵+冷阱(或分子泵、低温泵)+(可选加罗茨泵)

极限真空:3.0E-4pa

恢复真空:大气至4.0E-3pa≤15min

工作架:Φ640mm帽形工件盘等,扇形,行星,转速可调

烘烤:上烘烤用进口管状加热器(下烘烤用碘钨灯加热);最高温度350℃,可调可控

蒸发源:1~3组的电阻蒸发源

电子枪:选配电子束蒸发源,功率6Kv至10Kv

离子源:Φ12cm考夫曼(可选),

工艺气体配置:1~3只进口MFC控制

膜厚控制:光学膜厚控制仪或光栅单色仪

石英晶控:国产或进口

电源:3相,380V,50Hz,约30K

其他选配:加热型基台、镀膜机配套冷水机

典型应用


等离子辅助沉积Ag膜

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